目标实现25-100µm甚至10µm特征尺寸

1.发生了什么：Reddit用户发帖询问廉价DLP投影仪型号。

3.可能影响的公司或赛道：教育/研究机构、小型实验室、光刻设备入门市场，目标实现25-100µm甚至10µm特征尺寸， 2.属于产业链哪个环节： 光刻 （第6步）——无掩模直写，用投影仪DMD替代光掩模，。

用于搭建DIY无掩模光刻系统，有助于新人理解光刻的基本原理和低成本实现路径， ，曝光波长365-405nm， 4.为什么值得关注：该帖详细讨论了投影仪改造、DMD分辨率、光学引擎等。